1、连续磁控溅射镀膜vwin平台怎么样 介绍
产品型号：CP-PVD系列
产品描述：
CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备采用先进的in-line产线结构，孪生阴极磁控溅射技术，并配以全自动控制系统、先进的真空系统，可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti以及薄膜及复合多膜层结构,各类金属或合金膜，可连续镀四种不同材质的薄膜，适合大规模光学、电学薄膜的生产，做到一机多用，填补了国内空白。
CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备是由广东志成冠军集团与华中科技大学机械科学与工程学院根据在玻璃上溅镀薄膜功能材料的要求联合自主研发而成，具有高能效、高可靠性、低成本的优势。
技术特点：
（一）产品结构特点
1）in-line多腔体模块化结构，镀膜室、进出片室缓冲隔离处理。
2）防颗粒立式腔体，双端进出，自动回架。
3）孪生平面靶结构、圆柱靶，可进行双面溅镀。
4）磁流体密封，动态真空稳定性极佳。
5）磁导流、磁悬浮传动，运行过程平稳可靠。
6）SUS304不锈钢腔体材料，内壁抛光放气率低，外壁抛光喷珠美观耐用。
7）平移架气缸自动化平移，与自动平移实现同步连锁。
8）真空室之间采用门阀—插板阀隔开，高效隔断，工艺气体波动最小化。
（二）C-Mag技术
1）基于志成冠军“C-Mag”技术，靶材利用率比一般设备提高10%以上。
2）基于志成冠军“C-Mag”技术，可使设备稼动率提高到90%以上。
（三）生产工艺特点
1）RF或离子源预清洗设计，高度清洁基材表面，增强膜层附着力。
2）DC溅射、MF溅射、RF溅射根据工艺需求可选。
3）隔离式磁控溅射多靶位，SiO2、ITO多层膜连续溅镀。
4）膜层均匀性好，可控制在±3%以内。
5）红外加热，分段PID温度控制，温度误差控制±3℃。
6）变频调速，生产速率可控。
7）人机界面，PC+PLC控制，生产过程全自动化，高稳定性、高重复性。
8）偏压溅射：在基片上施加偏置电压，使基片位置相对接地（阳极），真空室处负电位，吸引部分离子加速流向基片，提高成膜轰击原子的能量，达到改变膜层性能的目的。可分为直流和脉冲偏压溅射。
9）膜厚监控和沉积过程由计算机控制
10）膜厚监控和沉积速率由计算机控制
11）可选增加在线退火处理箱体。
技术参数：
1）极限真空：6×10-4Pa
2）生产节拍：40-120s/架（依赖于具体的生产工艺）
3）基片尺寸：可定制，可实现同机溅射多种尺寸产品的柔性化设计。
4）膜层均匀性：±3%
5）加热温度：最大800℃
2、广东志成冠军集团有限公司以及光电设备事业部简介
广东志成冠军集团有限公司专业从事绿色电源、光电设备、绿色能源装备的研发、生产和销售。拥有注册资金5000万元，年销售额10亿元。
公司拥有占地15 万平方米的总部和研发、生产基地，坐落在毗邻深圳经济特区的东莞市塘厦镇，共有员工1400 余人，其中各类专业技术人员570 余人，是“国家级高新技术企业”、“国家火炬计划重点高新技术企业”、“广东省装备制造业骨干企业”、“广东省百强民营企业”。企业注册商标被评为“广东省著名商标”，2010年又被国家工商总局商标局认定为“中国驰名商标”。
公司坚持自主创新，构建了以企业为主体、市场为导向、产学研相结合的技术创新体系，其中与华中科技大学机械科学与工程学院以及东莞华中科技大学制造工程研究院展开了长期紧密的技术合作，成立了光电设备事业部致力于高端光电设备、半导体设备的研发与生产。
经过多年的发展和积累，公司已拥有一批高学历，经验丰富的真空设备、镀膜技术、半导体制造工艺技术领域的专业技术人才。在华中科技大学光电设备研制领域的专家教授领军下，公司自主开发出大面积连续镀膜磁控溅射设备、大面积PECVD镀膜设备，LED光电生产设备等。能根据客户需求提供半导体设备和光电设备从设计、安装到工艺调试的全流程交钥匙解决方案。
公司研发的磁控溅射设备技术水平先进可靠，可广泛应用于触摸屏、LCD显示屏、彩色虑光片、电磁屏蔽玻璃等产品的生产加工领域。