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[供应] 连续式磁控溅射镀膜设备,真空电镀设备
产品型号
产品数量:订做
产品价格:面议
包装方式:木箱
点击次数:683次
该信息于2010-08-06发布,在2011-02-05前有效
       
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详细说明

该系列vwin平台怎么样 主要用于在平板玻璃压克力、PC、PET等表面镀高质量、多功能金属膜、电磁屏蔽膜、反应膜、复合膜、透明导电膜、抗反射(AR)、增反射膜、LOw—E等膜层。本公司可按用户要求提供设计,提供全套设备,负责工艺,按交“钥匙”工程服务。
设备特点:
1、设备采用真空磁控溅射技术,孪生阴极,中频溅射技术,并配以先进的控制系统.
2、生产过程全部自动,连续进行。被镀工件加热温度最高可达350℃,温度分区控制可调,
3. 真空室体材料采用SUS304,真空室内壁进行抛光处理,外壁采用抛光后 喷珠处理。
4、真空室之间采用独立门阀隔开,我们设计的是插板阀,可以有效隔断,稳定工艺气体。目前国内只有我 们公司具有这项技术设计生产插板阀,它比目前国内通用的翻板阀密封效果更好,更耐用.
5、传动采用磁导向,保障传动的稳定性。整条vwin平台怎么样 的各段速度采用变频调速电机驱动,运行速度可调节
6、电气控制系统:触膜屏与P L C自动控制,人机对话方式来实现系统的数据显示、操作与控制
7、主要技术参数:
8、极限真空压力:7×10-4Pa
9、平均生产周期:8 0秒/架
10、基片架尺寸:8 5 0×1 5 0 0(mm)(可以根据要求定做)
11、膜层均匀性:±2%
12、膜层稳定性:达到国际标准