LE-X-ADVANCE型三维激光内雕系统是世界上最新的多功能内雕设备，采用稳定性极高的半导体泵浦固态激光技术。该设备外形设计小巧，内雕最高速度达到每秒4500点，雕刻范围达到300＊400＊100mm，全智能化控制易于学习操作。该设备适用于个性化的高档影楼、高档工艺品、高档礼品等等领域，可表现极其丰富的照片层次和精雕细琢的三维效果。

型号  LE-X-Advance
激光器  半导体泵浦，532nm波长，10K赫兹
激光脉宽  < 10 ns
激光稳定度   ±1% (脉冲-脉冲) 
半导体管寿命  12000 hrs
供电连接  220 V 或 110 V ±10%  1500 W 
电功率损耗  1200 W
最小雕刻点直径  60 um
最大雕刻点直径  120 um
最大雕刻范围  280×330×100 mm 
最大水晶尺寸  300×350×120 mm
最大雕刻速度  5000点/秒
平均雕刻速度  3200点/秒
最大标刻速度  400字符/秒
定位精度    15 um
雕刻案例  水晶:50×50×80mm/ 图像:50万点/ 雕刻时间:<2 分钟
机器冷却  风冷
尺寸  尺寸(毫米)：长x宽x高  重量(公斤)  
   710×670×890 mm   150 kg  
颜色  浅灰
环境要求       室温                            湿度
  15-30℃                        <60%