型号：SWC-3000
产地：美国
MYCRO提供美国原装进口的单晶圆片和掩膜的清洗设备，均匀度高和国际顶尖水平的兆声清洗解决方案。提供单晶片或者单片掩膜板的清洗，它通过控制声波能量密度来对衬底表面进行无损坏的清洗。表面颗粒的去除可以调整化学试剂的配方成分，使得衬底表面存在最少量的颗粒。化学配比系统设计了最小的化学试剂的消耗，它提供了程序化的混合方式使化学试剂在衬底表面完全均匀的分布。这个设计也提供了精确的化学工艺时间的控制，控制超声波去离子水的流量，然后衬底在热氮氛围里旋干。
    根据用户的应用需要，某些特定选项将有助于设备去除不想要的颗粒和杂质。
具体应用
清洗功能：
• 晶圆片
• 蓝宝石外延片
• 晶圆框架上的芯片
• 显示面板
• ITO膜显示材料
• 有图形掩膜和无图形掩膜
• 掩膜坯料
• 薄膜式掩膜
• 接触式掩膜
光刻处理工艺：
• SPM剥离
• 光刻胶涂膜
• 光刻胶剥离工艺
刻蚀：
• 金属刻蚀（铝，铜，铬，钛）
白骨化清洗：
• 在晶圆片上注射硫酸和双氧水的混合液
• 红外加热
• 刷洗
• 兆声双氧水清洗
• 热氮和甩干 产品特点：
• 针对21英寸外径或15x15英寸的基底
• 巨声环境清洗舱（可配备去离子水, 清洗刷, 热去离子水, 高压去离子水, 热氮气）
• 化学注射臂
• 带化学喷射的可变速清洗刷
• 触屏用户界面
• 手动上下载
• 安全锁和报警器
• 占地尺寸30”D x 26”W 
可选配项：
• 化学试剂传送单元
• 白骨化清洗
• 臭氧发生器
• 氢化双氧水发生器
• 高压双氧单元
• 硫酸氢过氧化物
• 红外加热
• 双氧水循环装置
• 机械手上下载单元
• 带EFEM和SMIF界面的 集群系统
 
去胶/剥离工艺
• 带红外加热的NMP滴胶
• 刷洗
• 兆声双氧水清洗
• 热氮和甩干
CMP溶液清洗：
• 用刷洗和兆声清洗去除CMP颗粒
• 化学喷射臂
• 化学喷射罐
• 为前面和背面刷洗设计的特殊托盘
• 可调速的PVA清洗刷
• 可调的清洗刷/晶圆接触压力
• 刷式化学喷射
带膜/不带膜式掩膜清洗：
• 全套清洗（无需更换保护膜）
• 全保护膜
• 膜式掩膜清洗工艺
 1)  掩膜背面清洗后

• 兆声双氧水清洗
• 刷式清洗
• 化学清洗
• 热氮甩干
 2)热氮甩干 
SWC系列清洗系统
可选型号：
SWC-3000 标准台式 兆声清洗，N2旋干  
 
 
 
SWC-3000-C CDU台式 兆声清洗，N2旋干，带化学试剂分配功能 
SWC-3000-M 掩膜板台式 兆声清洗（3MHz），N2旋干或者红外灯烘干 
SWC-4000 标准立式 兆声清洗，热N2旋干化学配比，酸和溶剂分别独立排放 
SWC-4000-M 独立的掩膜板清洗机 兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放 
SWC-4000-MP 薄膜光刻度板清洗机 兆声清洗，热N2旋干
化学配比，酸和溶剂分别独立排放 
 
技术指标：
最大晶园尺寸：12英寸
最大掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗时间：1分钟
标准巨声波频率：1MHz
射频电源输出功率：60W
最小DI水流量：1.5L/min
最大转速：4000RPM
系统控制：PLC程序控制
装载和卸载：手动
氮气烘干温度：最高300℃
需要更详细的晶圆清洗机信息
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