ITO导电玻璃真空镀膜流水线
该系统专门针对玻璃镀ITO膜设计，分为9个真空室：进料室、辉光清洗室、过渡室、SIO2溅射室、过渡室、ITO溅射室、传输室、缓冲室、出料室。系统整体设计严格，采用分子泵高真空机组，可配备高溅射效率的平面靶或旋转靶，采用直流溅射或中频溅射，可以高效率的溅射AL膜、ITO膜、SIO2膜、银膜、铬膜、TiO膜等。
一、工艺膜系：
单面结构：Glass/ ITO/SiO2/MoAlMo/ITO/ SiO2 
双面结构：SiO2/MoAlMo/ ITO/Glass/ITO/MoAlMo/ SiO2 
二、设备主要技术参数：
真空连续式镀膜流水线配置表
序号  项目  规格及说明
1  设备主体  　
1.1  外形尺寸  15.6m*2.4*1.6m（长*宽*高）
1.2  整体重量  17吨
2  传输部分  　
2.1  工件盘尺寸  1210*600mm
2.2  驱动电机  LENZE MDSKSRS036-13
3  真空系统  　
3.1  预抽真空组  PAC250+WKP500A
3.2  高真空分子泵  TMH1001和TMH521
3.3  冷凝泵  POLYCOLD PFC-1102HC
4  真空压力检测  　
4.1  皮拉尼规  TPR 265
4.2  全量程检测真空计  PKR251
4.3  过程压力测量  MKS Baratron627B 
4.4  压力安全开关  PN3009
5  气流控制系统  　
5.1  气流量控制器  MKS 质量流量控制器
6  溅射系统及电源  　
6.1  辉光清洗电源  霍庭格 TIE 10/100P 
6.2  溅射电源  霍庭格 TIG DCS30
6.3  清洗电极尺寸  580*160
6.4  阴极溅射靶尺寸  900*240
7  自动化控制系统  　
7.1  上位机  SEMITIC PANEL PC670 
7.2  可编程控制器  西门子 PROFIBUS 网络 S-318CPU
8  外围配置及要求  　
8.1  电源输入要求  380V 240KW 
8.2  冷水机  K-2-38/5-2
8.3  压缩空气  压力6-7BAR 2-3立方/小时
   三、ITO膜层性能：
透过率：≥93% 
方电阻：100±10 
表面硬度：≥3H 
膜层厚度：1500±200A